半导体行业有机废气解决解决方法
半导体行业做为高新科技产业链 ，通常被别人误会为“清理”产业链 ，但实际上 ，半导体材料生产过程中应用了很多有机化合物和无机化合物 ，包含很多有害有害物 ，对污染环境比较比较严重 ，如不加以控制 ，可能造成很大的空气污染 。一些半导体产业比较发达的国家和地区 ，如英国 、法国和台湾省等 ，都对于半导体行业制订了相对的环保标准 。
半导体行业中应用的清洁液 、显影剂 、光刻技术 、蚀刻液等有机溶剂，带有很多的有机化合物成份 。在工艺加工工艺全过程中 ，这种溶剂绝大多数根据蒸发变成废气排出 。
半导体行业有机废气解决 ，现阶段一般采用吸附 、焚烧处理或二者紧密结合的解决方式 。吸附是运用多孔结构固态吸附剂解决混合气 ，使在其中含有的一种或多种多样成分吸附在固态表层 ，做到分离出来的目地 。吸附剂可选择性高，能分离其他全过程无法分离的化合物 ，合理地消除或收购 浓度值很低的有害物 ，清洁高效率，机器设备简易 ，实际操作便捷，且能完成自动控制系统 。
可是 ，固态吸附剂的吸附容积小 ，必须很多的吸附剂 ，机器设备巨大 ，且吸附后吸附剂必须再造解决 ，是吸附解决的关键缺陷 。半导体材料生产制造场地蒸发出去的有机废气根据部分排风罩搜集 ，经济管理道送至吸附净化设备 。一般采用活性碳做为吸附剂 。由于活性碳是非极性吸附剂 ，对废气中水蒸汽的敏感度不高 ，且价格低。焚烧处理的方式也普遍用以半导体行业解决各种各样有机废气 ，根据苛化将有机化合物转换为CO2和H20 。另外 ，焚烧处理对解决平稳总流量和浓度值的废气也是一种非常好的方式 。在苛化中 ，有机废气流历经加温 ，液相中的有机化合物被氧化。为节约然料应用 ，一般 还应用换热器 ，收购 焚烧处理造成的发热量对進口汽体开展加热 。针对解决大流量 、较低浓度的的汽体 ，一般 都需要采用这类方式 。因为半导体行业废气焚烧处理会造成SiO2 ，且SiO2会使金属催化剂钝化处理 ，因而半导体行业中非常少采用触碰空气氧化的方式 。
在废气整治层面，半导体行业酸 、碱废气一般采用相对的烧碱溶液消化吸收和酸液消化吸收开展解决 ，加工工艺方式已很完善，只需适度提升有关加工工艺主要参数 ，可以考虑本规范的规定 。
现阶段 ，有机废气解决常见加工工艺有：吸附法 、消化吸收法 、立即点燃法 、催化燃烧装置法 、冷疑法等 。吸附法采用活性碳立即吸附 ，清洁效果非常的好 ，可是经营成本会很高 ；消化吸收法合适于温度低 、中浓度较高的的废气 ；立即点燃法合适于浓度较高的 、小排风量废气整治 ；冷疑法适用成份相对性单一 、浓度值高 、且有一定收购 使用价值的有机废气 。而针对半导体行业较低浓度的 、风大量 、成份繁杂的有机废气，吸附法 、消化吸收法 、点燃法 、冷疑法均不适合 ，较为可用的是吸附+催化燃烧装置法 。
半导体行业有机废气解决，现阶段中国一些大中型半导体企业已采用沸石转轮吸附浓缩后点燃，该方式适用风大量 、较低浓度的 、常温下的有机废气解决，清洁高效率做到90％之上 ，浓缩比达20﹕1 ，运作花费较低 ，机器设备解决排风量大 ，占地小，不造成二次污染 ，可持续性吸附并解决空气污染物 。
